特点
1.高效率排气系统
2.可降低颗粒及微尘污染 选购配置
3.高精度膜厚控制系统
4.高功率 ・ 大面积照射离子源
重复性性能
采用新开发研制的光纤式光学膜厚仪、配备80点监控玻璃的稳定温度设计实现高精度特性。
通过纳入难以受到污染的技术,并以质量稳定的真空技术,连续20批次I R截止滤光片镀膜中不需要清扫・校正。
高功率RF离子源
Sapio 专用设计配备高效率RF 离子源,可从多层光学滤波片到树脂基片上镀高品质薄膜。
用独特的方法确定离子中和器点火,使其稳定放电。
扫一扫 在手机上阅读
光学薄膜形成设备 Genesis-AR 系列
原子层沉积设备 ALD系列
连续式频率微调机 SFE-B03-Ⅱ
LED多层光学DBR膜镀膜用真空设备Sapio-DBR (SGC-S1550i S1300i 系列设备)
长按屏幕识别二维码
打开手机扫描二维码